仪器名称: 高性能双面对准光刻机
| 仪器编号: 12004818 |
| 仪器型号: ABM/6/350/NUV/DCCD/M |
| 购置日期: 2012-09-20 |
| 单价(万元): 99.08 |
| 厂家: ABM公司 |
| 技术指标: 光强均匀性Beam Uniformity:：--<±1% over 2” 区域 --<±2% over 4” 区域 --<±3% over 6” 区域 接触式样曝光特征尺寸CD（深紫外DUV）：0.35 um 接触式样曝光特征尺寸CD(近紫外NUV）： 0.5 um 支持接近式曝光，特征尺寸CD：--0.8um 硬接触--1um 20 um 间距时--2um 50um 间距时 正面对准精度±0.5um 支持正胶、负胶及Su8胶等的厚胶光刻，特征尺寸：100um-300um 支持LED优异电流控制技术PSS工艺光刻 支持真空、接近式、接触式曝光 支持恒定光强或恒定功率模式 |
| 仪器介绍: |
| 存放位置：李文正楼毫米波国家重点实验室 |
| 保管单位：信息科学与工程学院 |
| 管理负责人：鲍迪 |
| 共享: 预约仪器 |
| 预约须知: |
| 收费参考标准: |
| 主要功能: 主要用于集成电路、半导体元器件、光电子器件、光学器件研制；本机不仅适合硅片、玻璃片、陶瓷片的曝光，而且也适合易碎片如砷化钾、磷化铟等基片的曝光。 |
| 仪器设备开放时间: 详情请查看仪器预约表 |